徐昀沒有讓光電技術研究所的大家失望，測試出氟化氙光源的功率數據，確定它能滿足極紫外光刻機的光源要求後，便立刻開始著手進行光學投影係統和掩膜這光刻機另外兩大難題的研究。
最終分別持續兩個小時的大腦超頻，共耗費250積分順利得出方案。
這使得他隻剩下最後倆小時的超頻時間。
以及30積分。
不生成出新任務的話，基本無法再開啟大腦超頻。
好在結果還算令人滿意。
順利解決掉這幾項難題，餘下小問題就算參與此項目的高校解決不了，他憑借自己現有的水平也能攻克。
無非是稍微多花點時間。
反正依靠大腦超頻，已經在幾項重點問題上給項目節省了很多時間。
倒不差這會。
值得一提的是，因為氟化氙光源方案的事，後麵徐昀再次拿出光學投影係統和掩膜設計方案時，其他人表現的相對來說則比較鎮定。
就像是早知道會有方案。
簡單開了個項目會議便定下此事。
集體表決通過這兩項方案，並立刻進行相關詳細實驗測試。
確保能滿足極紫外光刻機要求。
就這樣接下來幾個月裏，徐昀大部分時間都泡在研究所進行各種研究，偶爾還會飛到其他高校指導光刻機零部件的研究工作。
畢竟整台高端光刻機足有幾十萬個零部件，光解決重要的也不行。
需要保證其它小部件跟上進度，否則解決了光源投影係統和掩膜，照樣無法組裝出一台國產高端光刻機。
時間猶如一頭倔驢，跑起來就不停。
很快進入到溫度開始舒適的十月份，徐昀提出的光學投影係統和掩膜設計方案均通過各方麵的測試，簡單來說這相當於國產極紫外光刻機項目的進度已然完成過半隻剩下後期和其它零部件的組裝。
如此快的研發速度，不但刷新了光電技術研究所的最高記錄。