“各區域匯報一下進度。”
時間隻剩下不到一個星期的時間，但是1納米光刻機的進度還有一定的距離。
而且還是最難的晶圓模組，這個時候眾人的沮喪的情感更甚。
原本以為做完光罩模組，還能夠留有至少三個星期來完成晶圓模組。
但是即使是減少了大量的失誤，完成的時間也用了近一個月之久，和原本規劃的時間多了整整兩個星期。
“諸位，現在不是沮喪的時候，在一切還未成定局之前，我們還有希望。”
蘇辰勉勵了眾人幾句，眾多科研人員才稍微有了些幹勁，繼續進行著實驗。
“要想在這一個星期的時間內，完成晶圓模組，那麽從現在開始一個錯誤都不能夠出現。”
蘇辰這樣想著，順便開啟了上帝視角，腦力也使用到了極限。
“晶圓模組難就難在每次放置位置的差距，因為差距都是微米級別的，即便是機器也很難做到百分百的準確放置。”
蘇辰在進行實驗之前就找出了主要難點所在。
“我記得A公司的EUV光刻機好像是用的雙平台對吧？”
進行實驗時，蘇辰和一邊的王宏誌說道。
“沒錯，但是這個方法，我們華國雖然有過借鑒，但是沒有辦法做到和A公司一樣的地步。”
王宏誌搖搖頭說道。
雙平台的出發點就是因為每次放置時位置都會出現偏差，這樣就需要一定時間的檢測。
所以使用雙平台就可以做到上一個平台在檢測時，下一個平台能夠代替上一個平台繼續進行工作。等到這個平台開始放置檢測的時候，上一個平台就能夠繼續進行工作，可以把效率做到最大化。
這個雖然聽起來簡單，但是操作都是微米級別的，是真正的失之毫厘差之千裏。
“這個我們可以借鑒一下，既然要做就要做最好的。”