東京應化、JSR、住友化學、富士膠片占據光刻膠市場70％以上的市場份額。
光刻膠一旦斷供，晶圓廠就得停工。
無疆微電子公司總不能把希望一直寄托於日本人的善良和好心，認為他們不會斷供吧。
光刻膠的市場並不大，10億美元不到，但極其重要。
前世，國內無論是光刻機，還是光刻膠，都被國外拿捏。
光刻膠的生產難度也非常高，不單單是其配方，最難攻破的還是工藝，其中，曝光設備和感光檢測設備遠遠落後於國外。
另外，日本還在光引發劑、樹脂等光刻膠重要原材料領域，同樣具備較高的壟斷程度。
所以趙燁現在要研製光刻膠，既要研究光刻膠配方與工藝，還要投入資金研究和生產光引發劑、樹脂等光刻膠重要原材料，投資比較大，但是投資再大也要去做。趙燁不去做的話，國內就沒有人去做了。
試想，一旦光刻膠斷供，晶圓廠停工，那趙燁在無疆微電子公司投資的那麽多的人力和財力，都等於是浪費了。
趙燁相信，以美國為首的西方國家，絕對能夠做得出來。
所以，自力更生，才是王道。
黃昆、秦國剛、王守武、王圩等院士們很熱衷於幫助趙燁建立「無疆光刻膠有限公司」。
於是，趙燁就把這件事托付給他們負責，自己最後出錢就是了。
……
光刻膠占據電子材料至高點，對於國家的發展至關重要。
上遊原材料且不提，主要是中遊製造，主要分為：PCB光刻膠、LCD光刻膠、半導體光刻膠三種，分別對應著下遊應用：PCB產業、麵板產業、半導體產業。最後則是電子產品應用終端，比如手機、家電、航空航天、汽車電子等等。
不難看出，發展光刻膠對於一個國家科研、工業產業等發展至關重要。
前世，半導體光刻膠按照曝光波長不同可分為g線（436nm）、i線（365nm）、KrF（248nm）、ArF（193nm）以及新興起的EUV光刻膠5大類，高端光刻膠指KrF、ArF和EUV光刻膠，等級越往上其極限分辨率越高，同一麵積的矽晶圓布線密度越大，性能越好。