光刻機的製造難度主要在於三大關鍵設備：光源、雙工件台、光刻機鏡頭。
而在光源方麵，毫無疑問z國的世界最強的那個，這個結論從激光武器z國明顯領先m國便能得出。
一個小小的光刻機光源，完全難不倒z國的科研人員。
雙工件台就不太容易了，據說asml研發的基於磁懸浮平麵電機的雙工件台產品，其掩模台的運動控製精度做到了2納米，大大提升了芯片加工的精度和效率。
如此先進的雙工件台，外國專家曾傲慢地說：“全世界沒有第二家機構能做出來。”
然而僅僅過去五年不到，z國菁華大學的一個科研團隊，研製的運動精度控製在2納米左右的雙工件台，成功通過了整機驗收。
關鍵技術指標達到了國際同類光刻機雙工件台技術水平。
雙工件台也被z國人攻克了。
最後就是光刻機鏡頭，近些年光學鏡頭領域進步飛速，甚至有家民用衛星公司製造的光學衛星，分辨率就達到了1米、0.5米，地麵的航母、軍艦、車輛一覽無餘，甚至可以拍攝正在起飛的飛機，拍攝火箭發射畫麵，清晰度令人吃驚。
民用光學衛星的表現已如此誇張，軍用當然更不得了。
這反映出的，是z國在光學鏡頭領域的進步。
光刻機鏡頭自然也難不倒z國的科研人員。
所以光源、雙工件台、光刻機鏡頭這三大用於製造光刻機的核心設備，z國全部掌握。
這也正是asml公司對z國放開光刻機銷售的原因……嚴厲的封鎖，光刻機領域，隻會導致z國以更快的速度取得突破。
兔子被逼急了，會要你的命。
而z國的光刻機至今沒有趕上國外最先進水平，一方麵是市場份額被人牢牢把控；其次走相同的技術路線，會不可避免地會侵犯到asml的知識產權，引發專利官司。
再加上一些關鍵設備的禁售。