“呼～”
腦海中緩了一會兒後，林曉便感覺自己的思維重新恢複了清晰。
這一次提高的大腦開發度還不到本來的十分之一，對他本身的負擔並不大，隻是稍微有一些頭暈罷了，等了一會兒後，這種眩暈感便逐漸消退了。
此時此刻，他再次抬頭看向周圍的環境，便感到周圍的一切仿佛都在他的把控之中，甚至他能夠將整個房間直接建立成為了一個3D模型，然後放在自己的大腦中，並且甚至能夠直接對這個模型進行改變。
此外，他甚至感覺自己現在能夠輕鬆地對八位數數字進行質數分解。
同時，他感覺自己對於物理的理解似乎也更近了一步。
本來，他因為之前提出了多維場論，而從係統那裏得到了一個【物理大師光環】，這個光環對他的加成還是很高的，這也是為什麽他有自信對光刻機來動手。
而現在他物理學又提升到了5級，這讓他更有信心將這個時間縮短了。
“甚至……EUV光刻機也不是什麽問題，似乎X光刻機，也能行？”
林曉的腦海中忽然浮現出了這個想法。
X光刻機，指的便是用X光作為光源的光刻機。
X光的波長比極紫外光更短，能夠更加容易地去生產先進製程芯片。
並且這種光刻機有一種優點，那就是它的光源是直接照射在芯片底上的。
這種曝光方式便叫做直寫式。
而EUV光刻機的光源中，EUV光源是經過十幾塊鏡片的各種折射，最後通過掩膜版上麵的圖案，以投影的方式在芯片上形成芯片的。
這也就是說，X光刻機不需要光掩膜版就能使用，同時它對透鏡係統的要求很低，僅僅隻對透鏡表麵光滑度有一點要求而已。
此外，EUV光源在經過十幾次光學鏡片的折射後，原有光源的能量也會大大遭到削弱，原來的100％，到最後能量可能隻會剩下不到3％，這也是為什麽對EUV光源的要求就是功率足夠強，不然的話，華國也不可能在光源上實現不了突破，畢竟方法都知道，不可能造都造不出來。