東京半導體設備展有很多年曆史，今年因為新芯宣布旗下的光刻機業務條線突破了40nm工藝製程，導致這次的東京半導體設備展格外引人注目。
新芯這個名字在半導體行業內並不陌生，甚至頗有種大名鼎鼎的味道在內，因為這家企業和它的創始人周新一樣，迅速崛起後在業內占據了重要的地位。
台積電被它壓製的極其難受，ARM的移動芯片架構成為主流新芯功不可沒，德州儀器、三星、英特爾這些老牌巨頭紛紛下注移動芯片同樣是因為新芯。
因為新芯的地位和行業口碑，讓大家相信新芯確實突破了40nm工藝製程，尤其是友商們，他們更關注另外一件事。
“新芯是如何做到的？”在東京半導體展的開幕式上，小鬆正誌低聲問他旁邊的佐藤博人。
小鬆正誌是霓虹EUVA的執行董事，同時也是小鬆株式會社的會長，小鬆株式會社是光源製造商。
在霓虹產經社的主導下，尼康、佳能、小鬆株式會社、東芝和三菱等等都是EUVA的成員，EUVA的全稱是極紫外光光刻開發協會，極紫外光就是13.5nm波長的光。
因此新芯宣布攻克40nm製程後，EUVA的成員們並沒有太大的危機感，因為他們一旦攻克了極紫外光，那麽從65nm製程一直到5nm都將暢通無阻。
甚至站在EUVA，也就是協會的立場和小鬆株式會社的立場來說，小鬆正誌有點巴不得新芯是真的突破了，也就是說那種可以用在大規模生產上有良品率保障的突破，而別是實驗室突破。
因為新芯攻克了40nm工藝製程，意味著EUVA會獲得更多的資源支持，小鬆株式會社作為其中唯一的光源製造商，自然也會獲得更多的資源扶持。
至於新芯在光刻機市場上徹底擊敗霓虹，小鬆正誌從來沒有想過這種可能性，在他看來這是不可能的事情。