“光刻機突破確實有含金量，我在來之前和老張一起跑申海采訪新芯的時候，順便去了申海華科院光電所的徐至展院士。
問了他對新芯的看法，無論是當著我們麵，還是後來我私下找他學生采訪，他們對新芯的光刻機技術都讚不絕口。”
徐至展是院士，此時擔任申海光學精密機械研究所的所長，他雖然不是從事光刻機領域研究，但是激光物理裝置研究和光刻機多少沾點邊。
“徐院士說新芯把光刻技術推向了新的高度，是華國企業在這一領域的新突破。
在新芯進入光刻機領域前，華國最先進的光刻機技術要屬燕京那邊的華國科學院光電所研發的光刻機。
他們研發的是i線光刻機，光源波長在365nm，工藝精度最高也就0.35微米，而新芯的製程按照他們的說法已經進入了40nm，中間相差了至少兩代技術差距。”
因為要拍成紀錄片，所以在來之前大家做了大量基礎資料的查閱和相關專家的采訪，他們很清楚新芯的技術突破意味著什麽。
意味著華國和國外的光刻機領域在八十年代被拉開的差距，在這一刻成功實現了逆轉。
193nm波長光源的光刻機又叫ArF，如果單純看光源發展曆史的話，光刻機一共經曆了五代：436nm的g－line、365nm的i－line、248nm的KrF、193nm的ArF和13.5nm的EUV。
尼康研發的157nm波長光源的幹式光刻機因為不是主流，所以沒有算在裏麵。
如果沒有新芯的話，此時華國最先進的光刻機應該是華國科學院光電所研發的URE－2025型i－line光刻機，比主流光刻機足足落後代。
說完該男子又嘿嘿一笑，神情中露出一絲不可言狀的意味：“我前兩天不是去的申海嗎？
我有朋友在申海的光電所，他和我說，他們私下本來對新芯怨聲載道，這次新芯利用浸潤法實現了光刻機製程的反超，一下子他們就沒話說了。”