重點提示
※ 荷蘭的“小公司”阿斯麥，如何湧現成了行業領導者？
※ 為什麽說所在的環境對一個企業的影響也比較大？
※ 如何利用金字塔湧現體係助力企業發展？
在芯片製程領域，有一種叫光刻機的重大裝備。一家叫阿斯麥的荷蘭公司，它生產的光刻機有“印鈔許可證”之稱，一台就賣1.2億美元，以74％的市場占有率幾乎壟斷了全球市場。
早在20世紀80年代，阿斯麥還隻是飛利浦旗下一家隻有31位員工的合資小公司。在那個芯片製程還停留在微米的時代，光刻機的本質其實與“投影儀＋照相機”差不多，能做光刻機的企業少說也有數十家。恰逢那個年代，日本尼康公司憑借著相機技術的積累，成為全球光刻機領域當之無愧的巨頭。
誰也不曾想到，近40年後，阿斯麥這個原來的“灰姑娘翻身成了王後”，以處於壟斷地位的EUV（極紫外光刻）光刻機執掌起了全球芯片代工廠的生殺大權。
想當年，阿斯麥抓住的第一個機遇是什麽呢？20世紀90年代末，摩爾定律持續發展，但光刻機的光源波長被卡死在了193nm。行業巨頭尼康公司決定走穩健路線，采用157nm的F2激光，一步步來。在這樣的對弈中，阿斯麥選擇“賭一把”！大膽采用台積電工程師林本堅提出的“另類”技術路線：在光刻機的透鏡和矽片之間，加上一層水。通過光的折射原理，讓原有的激光波長，從193nm縮短到132nm。這種方法被稱為沉浸式光刻技術。後來，阿斯麥賭贏了！2004年造出了第一台沉浸式光刻機，然後拿下了IBM、台積電這些大客戶的訂單。尼康在這場比賽中落伍了，隨後市場份額第一次被阿斯麥反超。
阿斯麥贏下的第二步棋是什麽呢？1997年，英特爾與摩托羅拉、AMD（超微半導體公司）、IBM等全球有名的美國半導體公司，聯合3個美國國家重點實驗室，共同成立了一個叫EUV LLC的聯盟。這個聯盟主張采用EUV，也就是極紫外光刻方案。美國能源部批準阿斯麥進入了這個聯盟，成為EUV相關技術創新落地的設備廠家。由於美國對日本技術崛起的擔憂，尼康公司被排除在這個聯盟之外。從此，阿斯麥成了美國半導體行業的“政治盟友”。